艾德里安顿时轻松了一大截，孙董事长还是挺幽默的。

“汤普森院长，公司如今经费紧张，光源研究所是继续研制ArF准分子激光器？还是像Nikon开始研制F2准分子激光器？”

“孙董事长，我认为光源研究所应该另辟蹊径，开始研制波长只有十几个纳米的极紫外光？”

GCA在八五年就研制成功ArF准分子激光器，在光刻机光源领域全球领先，但在透镜和反射镜构成的光学系统方面逊于Nikon半导体设备公司不断提升的光学系统，加上光刻机光源被卡在193nm波长上多年，又遭遇全球芯片生产的衰退期，光刻机的霸主地位逐渐被光学系统不断提升的Nikon半导体设备公司抢走，年年亏损，公司裁人，技术人员流失，沦落到两次被贱卖的地步。

“汤普森院长预测光源研究所，能在多长的时间内研制成功极紫外光？”

孙健心中一喜，他不是不想投资研制极紫外光，而是担心投资太大，即使研制成功，没有配套的光学系统和相适应的光刻胶、掩膜版等，GCA也生产不出EUV光刻机！

前世，举国之力研制的EUV光源也没有结果，在世界上只有ASML控股的Cymer才能生产EUV光源，可见难度之大！

在光刻机光源方面，光刻机光源后起之秀Cymer如今还不是GCA的对手。

Cymer前世能成为光刻机光源的霸主，除了被ASML收购后不断投入巨资研发外，也有ASML将收购的GCA光刻机光源研究所并入Cymer光刻机光源研究院，强强联合。