BSEC的突破点就是赶在ASML之前率先研制成功世界上第一台193nm波长的浸没式光刻机！

孙健所有的运作就是围绕这个突破点！

EUV光刻机太过复杂，即使投入巨资研发成功EUV光源，但对相关的光学系统、光刻胶、掩膜版等设备和材料的要求太过苛刻，需要十万个零件，据说前世有五千多家生产商为EUV光刻机供货，重生者还不敢付诸实践。

“孙董事长，BSEC能否不转让磁悬浮式双工作台系统专利给Nikon？”

拥有了BSEC的磁悬浮式双工作台系统专利的终身授权，GCA光刻机光学精密设备研究所升级改造，只要研制成功适应800nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统（不能出售和转让专利技术），GCA光刻机的制程工艺就有可能达到500nm，达到Nikon光刻机的制程工艺，购买休斯电子材料公司（AEMC）生产的8英寸晶圆，还能提高35%左右的产能。

有了磁悬浮式双工作台系统和蔡司公司的光学系统，Gikon重新争夺高端光刻机市场份额的资本。

但前提是BSE。

“艾德里安总经理，BSEC开发的光刻机磁悬浮式双工作台系统拿到日本和欧美国家签发的公司发明专利，要等18个月左右。”

“孙董事长，我放心了！”